Սեպտեմբերի 9-ին տեղական ժամանակով Intel-ի գործադիր տնօրեն Քիսինջերը հայտարարեց, որ 20 միլիարդ դոլար կներդնի Միացյալ Նահանգների Օհայո նահանգում վաֆլի նոր լայնածավալ գործարան կառուցելու համար։Սա Intel-ի IDM 2.0 ռազմավարության մի մասն է:Ամբողջ ներդրումային պլանը հասնում է 100 միլիարդ դոլարի:Ակնկալվում է, որ նոր գործարանը զանգվածային արտադրություն կունենա 2025 թվականին: Այդ ժամանակ «1.8 նմ» գործընթացը Intel-ին կվերադարձնի կիսահաղորդչային առաջատարի դիրքին:
Անցյալ տարվա փետրվարին Intel-ի գործադիր տնօրեն դառնալուց հետո Քիսինջերը ակտիվորեն խթանել է գործարանների կառուցումը Միացյալ Նահանգներում և ամբողջ աշխարհում, որից առնվազն 40 միլիարդ ԱՄՆ դոլարը ներդրվել է Միացյալ Նահանգներում:Անցյալ տարի նա 20 միլիարդ դոլար է ներդրել Արիզոնայում՝ վաֆլի գործարան կառուցելու համար:Այս անգամ նա նաև 20 միլիարդ ԱՄՆ դոլարի ներդրում կատարեց Օհայոյում, ինչպես նաև կառուցեց նոր կնքման և փորձարկման գործարան Նյու Մեքսիկոյում:
Intel-ը ևս 20 միլիարդ դոլար է ներդնում չիպերի երկու գործարան կառուցելու համար։«1.8 նմ» տեխնոլոգիայի արքան վերադառնում է
Intel-ի գործարանը նաև կիսահաղորդչային չիպերի խոշոր գործարան է, որը նոր է կառուցվել ԱՄՆ-ում՝ չիպերի սուբսիդավորման օրինագծի ընդունումից հետո, որը կազմում է 52,8 միլիարդ ԱՄՆ դոլար։Այդ իսկ պատճառով, բացման արարողությանը մասնակցել են նաև Միացյալ Նահանգների նախագահը, ինչպես նաև Օհայոյի նահանգապետը և տեղական գերատեսչությունների բարձրաստիճան այլ պաշտոնյաներ:
Intel-ը ևս 20 միլիարդ դոլար է ներդնում չիպերի երկու գործարան կառուցելու համար։«1.8 նմ» տեխնոլոգիայի արքան վերադառնում է
Intel-ի չիպերի արտադրության բազան բաղկացած կլինի վաֆլի երկու գործարաններից, որոնք կարող են տեղավորել մինչև ութ գործարան և օժանդակ էկոլոգիական աջակցության համակարգեր:Այն զբաղեցնում է մոտ 1000 ակր տարածք, այսինքն՝ 4 քառակուսի կիլոմետր։Այն կստեղծի 3000 բարձր վարձատրվող աշխատատեղ, 7000 շինարարական աշխատատեղ և տասնյակ հազարավոր աշխատատեղեր մատակարարման շղթայի համագործակցության համար։
Ակնկալվում է, որ վաֆլի այս երկու գործարանները զանգվածաբար կարտադրեն 2025 թվականին: Intel-ը կոնկրետ չի նշել գործարանի պրոցեսի մակարդակը, սակայն Intel-ը ավելի վաղ ասել էր, որ 4 տարվա ընթացքում կտիրապետի 5 սերնդի պրոցեսորի գործընթացին և զանգվածային կարտադրի 20a: և 2024 թվականին 18ա երկու սերնդի գործընթացներ։ Հետևաբար, այստեղի գործարանը նույնպես պետք է արտադրի 18ա պրոցեսը մինչ այդ։
20a և 18a-ն աշխարհում առաջին չիպային պրոցեսներն են, որոնք հասել են EMI մակարդակին, որը համարժեք է ընկերների 2nm և 1.8nm գործընթացներին:Նրանք նաև կգործարկեն երկու Intel սև տեխնոլոգիաների տեխնոլոգիաներ՝ ժապավեն FET և powervia:
Ըստ Intel-ի, ribbonfet-ը Intel-ի կողմից տրանզիստորների շուրջ դարպասների ներդրումն է:Այն կդառնա առաջին բոլորովին նոր տրանզիստորային ճարտարապետությունը այն բանից հետո, երբ ընկերությունը առաջին անգամ գործարկեց FinFET-ը 2011 թվականին: Այս տեխնոլոգիան արագացնում է տրանզիստորի միացման արագությունը և հասնում է նույն շարժման հոսանքի, ինչ բազմաթին կառուցվածքը, բայց ավելի քիչ տեղ է զբաղեցնում:
Powervia-ն Intel-ի եզակի և արդյունաբերության առաջին հետին էներգիայի փոխանցման ցանցն է, որն օպտիմիզացնում է ազդանշանի փոխանցումը՝ վերացնելով էներգիայի մատակարարման և անհրաժեշտությունը:
Հրապարակման ժամանակը` 12-2022թ